我們所知道的第一代半導體是硅(Si)、鍺(Ge),鍺主要應用于低壓、低頻、中功率晶體管以及光電探測器中,但由于耐熱和抗壓行差,后續(xù)被硅材料所取代,現(xiàn)今硅材料主要作為基礎材料來制作電子產品。第二代半導體材料是砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP),更新?lián)Q代的材料比第一代的硅擁有更加優(yōu)秀的性能,適合用于大功率、高速等發(fā)光元器件,被廣泛運用于通信領域。
那什么是第三代半導體呢?第三代半導體材料主要是以新興材料碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、氧化鋅(ZnO)、金剛石、氮化鋁(AlN)為代表的寬禁帶的半導體材料。因其擁有更寬的禁帶寬度、更高的導熱率、抗輻射能力、更大的電子飽和漂移速率等特性,技術可以實現(xiàn)電子濃度和運動控制,更符合于制作高溫、高頻、抗輻射及大功率電子器件,在光電子和微電子領域具有重要的應用價值。例如小米120W快充電源適配器,就是利用了第三代半導體材料氮化鎵(GaN)大功率、高效能量轉化的特點,最快速度可以在20分鐘將手機電量充滿,贏得市場的青睞。
第三代半導體也與綠色低碳、智慧經濟等國家重大戰(zhàn)略要求觀念相符,現(xiàn)在已成為全世界半導體技術和產業(yè)新的關注核心,在國家相關政策的扶持幫助下,我國的第三代半導體產業(yè)已經逐漸形成,不少傳統(tǒng)的半導體企業(yè)都在布局第三代半導體的領域,不斷創(chuàng)新發(fā)展。
值得注意的是,第三代半導體并不是取代了第一、二代半導體材料,它們三者應用在不同領域不同產品上各有各的優(yōu)點,集合在一起又是互補的關系。
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